主要應(yīng)用于半導體材料的合成燒結(jié)、催化劑材料的制備、材料的活性評價、光解水制氫、光解水制氧、二氧化碳還原、氣相光催化、甲醛氣體的光催化降解、VOCs、NOx、SOx、固氮等領(lǐng)域。

高溫光熱催化反應(yīng)系統(tǒng)實現(xiàn)高溫過程中光催化反應(yīng)體系，工作區(qū)溫差小于±1℃；

可以讓紫外光、可見光、紅外光等光源照射到催化劑材料的表面，實現(xiàn)光熱協(xié)同；

光熱催化反應(yīng)器采用高透光石英玻璃管，內(nèi)含石英專用樣品舟；

可以實現(xiàn)氣氛保護、抽取真空、多種氣體流量控制等功能；

系統(tǒng)采用一體化結(jié)構(gòu)設(shè)計，可以隨時調(diào)整樣品位置，實現(xiàn)快速加熱或快速冷卻；

采取模塊化設(shè)計，光源、高溫反應(yīng)熱臺、高真空等，可根據(jù)實驗調(diào)整。